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光刻機專用雙頻激光干涉儀
可構(gòu)建XY位移臺等多軸測量系統(tǒng)
采用直接輸出線偏振光、大功率、大頻差雙頻激光器
無圓偏振光轉(zhuǎn)線偏振光非線性誤差
大功率可同時測量更多數(shù)量的軸向位移
大頻差，測量速度更快
Information in English:
LH1000 Dual-frequency Interferometer.pdf
Nonlinear error analysis and experimental measurement of Birefringence-Zeeman dual-frequency laser interferometer.pdf
專為光刻機配套開發(fā)的高精度測量系統(tǒng)；
通過國家重大專項“極大規(guī)模集成電路制造技術(shù)及成套工藝”項目驗收。
采用直接輸出線偏振光的雙頻激光器；
非線性高精密測量系統(tǒng)，測量更精準；
可提供1~20MHz頻差內(nèi)任意頻差產(chǎn)品，滿足各種測量速度需要。
光源和測量信號接收單元分體式設計，方便搭建XY位移臺等多軸測量系統(tǒng)；
精巧的測量信號光纖接收頭，即使空間狹小也能方便安裝；
標準光刻機干涉儀安裝尺寸和數(shù)據(jù)接口，可直接替換現(xiàn)有產(chǎn)品。
（欲了解更多單頻與雙頻干涉儀的性能特點和差異，請閱覽本網(wǎng)站解決方案欄目中的：雙頻激光干涉儀）
型號 | 頻差(MHz) | 最小出光功率(μW) | 光斑尺寸(mm) | 穩(wěn)頻精度(ppm) |
LH1000A | 1.5±0.5 | >500 | 6 | ±0.02 |
LH1000B | 2.5±0.5 | > 500 | 6 | ±0.02 |
LH1000C | 3.5±0.5 | > 500 | 3, 6, 9 | ±0.02 |
LH1000D | 4.5±0.5 | >500 | 6, 9 | ±0.02 |
LH1000DL | 5.5±0.5 | > 500 | 6, 9 | ±0.02 |
LH1000EL | 6.5±0.5 | >500 | 6 | ±0.02 |
LH1000FL | 7.5±0.5 | >500 | 6, 9 | ±0.02 |
LH1000GL | 8.5±0.5 | > 500 | 9 | ±0.02 |
LH1000H | 9.5±0.5 | > 500 | 3, 6, 9 | ±0.02 |
LH1000I | 10.0-20.0(按需定制) | > 500 | 3, 6, 9 | ±0.02 |
注：可根據(jù)需求定制更小頻差范圍。
懇請注意：因市場發(fā)展和產(chǎn)品開發(fā)的需要，本產(chǎn)品資料中有關內(nèi)容可能會根據(jù)實際情況隨時更新或修改，恕不另行通知，不便之處敬請諒解。
LH1000雙頻激光干涉儀應用于尼康光刻機后，其工作臺精度由原來的23nm提高到6nm！
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